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光学表面离子束加工的材料去除机理及表面演变机制研究
193nm深紫外光刻机和下一代的13.5nm极紫外光刻机是我国半导体行业和超大规模集成电路战略的核心装备,光刻投影物镜是其中尤为关键......
学位
光刻机
投影光刻物镜
离子束加工
材料去除
表面演变
原子行为
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