全息光刻相关论文
作为X射线波段的一种重要色散元件,金透射光栅主要用于激光惯性约束核聚变（ICF）实验中的等离子体诊断,以及X射线天体物理研究的高能......
由于在超高密度磁存储技术、磁阻传感器、磁随机存储器等诸多方面有着广泛的应用前景,微米、纳米磁性单元阵列最近吸引了越来越多......
介绍了数字编码光栅尺的结构设计并提出一种制作方法.采用紫外对准光刻、全息光刻及湿法腐蚀结合在(100)硅片上制作母光栅尺, 并以......
基于严格耦合波分析,研究凸面闪耀光栅的衍射特性;采用全息光刻-离子束刻蚀法制作中心周期为2.45μm、曲率半径为51.64 mm、口径为......
凸面闪耀光栅是研制高光谱分辨率超光谱成像系统的关键器件之一。由于要求的闪耀角度一般较小，制作工艺难度大，其衍射效率与理论值有......
国家同步辐射实验室新建了覆盖5~40 eV的低能区高分辨率角分辨光电子能谱光束线。其球面光栅单色仪包含了三块光栅，即300，600和1200 ......
光子晶体、量子光学、超快光学与微纳光学的发展,使得操控光子的发射与传输特性成为可能。综述了具有复折射率周期性调制的共振吸......
基于Ga As衬底采用全息光刻和湿法刻蚀技术制备周期孔阵图形。得出全息光刻双曝光最优曝光时间为60 s。采用H3PO4∶H202∶H2O=1∶1......
实验优化设计了808 nm分布反馈(DFB)半导体激光器的二级布拉格光栅结构,介绍了808 nm DFB半导体激光器光栅制备的工艺过程。采用全......
◆摘 要：本文對全息光刻技术进行简单介绍，并对影响全息光刻图形质量的印象因素进行了分析。 ◆关键词：全息光刻;影响;分辨率;图形......
光子晶体是近年来发展起来的一种新型材料，由于其全新的控制光子的物理特性，即“光子禁带”和“光子局域”的特性，它在光通信及光集成......
在过去的20年中,光子晶体被应用于许多光子学领域诸如低阈值激光器,低损耗光波导,片上集成光路和光纤系统。光子晶体的应用需要解......
全息离子束刻蚀衍射光栅是通过全息光刻制作出光刻胶光栅掩模和离子束刻蚀将其转移到光栅基底上而制成,它集中了机械刻蚀光栅的高......
在信息光子学的发展过程中,微纳光子结构因其独特的光波调控特性,已经成为当今国内外研究的热点,在物理、材料等众多领域引起了广......
本论文利用超高真空化学气相沉积(UHV-CVD)设备，系统地研究了外延生长条件对Si基Ge量子点特性的影响。以自组装S-K(Stranski-Krasta......
在分析光刻胶光栅浮雕图形缺陷成因的基础上,首次将光刻胶灰化工艺引入到全息-离子束刻蚀制作闪耀光栅工艺中,并成功地为国家同步......
金透射光栅广泛用于真空紫外、X射线、物质波的衍射和光谱测量.分别介绍了美国麻省理工学院空间微结构实验室和中国科学技术大学国......
采用全息离子束刻蚀和反应离子刻蚀相结合的新工艺,在熔石英基片上成功地刻蚀出200 l /mm、线空比4:6、槽深70 nm、刻划面积60×20......
本文介绍了一种激光数码全息在DVD光盘产业中的应用.包括数码全息图像设计、母版光刻、金属模版制作,注塑模加工和DVD全息图像注塑......
激光干涉制作亚微米尺寸磁性周期结构中,基底材料具有高反射率,由于垂直驻波的影响,光刻胶浮雕图形侧壁产生"束腰",本文将O2反应离......
