叠栅条纹相关论文
针对投影光刻机短波长、大数值孔径、短焦深的特点，讨论了一种基于光闸叠栅条纹的纳米检焦方法。该方法采用三角测量的基本原理，利用......
在全息光栅曝光光路中，基底的定位误差会直接影响光栅的技术指标。对平面全息光栅会造成光栅周期误差，对凹面全息光栅则会增大其像差......
提出一种基于复合光栅的对准方法，满足接近式光刻高精度、大范围对准需要。该复合光栅由周期具有微小差异的小周期光栅以及与之相正......
在线光栅用于纳米光刻对准理论的基础上，为实现光栅方向的标定和掩模硅片对准，提出一种利用相位斜率消除角位移的新方法，并给出线光栅......
提出了一种利用方形孔径微透镜阵列和微图形阵列产生的二维叠栅条纹测量微小角度的方法。分析了不同尺寸阵列产生的二维叠栅条纹的......
研究了方形孔径平面微透镜阵列和微图形阵列的叠栅条纹的傅里叶原理。方形孔径平面微透镜阵列可视为正交的二维栅格线簇, 以一维光......
为了提高全息光栅曝光系统的曝光对比度，抑制外部环境变化引起的曝光干涉条纹漂移，提出了一种移栅型干涉条纹锁定方法。采用分束光栅......
为了提高光电编码器速度检测精度,设计了一种基于叠栅条纹光电信号的编码器测速方法。结合全微分方程,建立叠栅条纹光电信号测速模......
光刻对准中,一般将硅片和掩模对准标记制作成周期接近的光栅,通过光栅标记叠加形成的叠栅条纹的相位信息,探测掩模和硅片的相对位......
提出了一种基于二维光栅叠栅效应的纳米光刻对准方法,用于接近式光刻实现二维同步对准。该方法采用两组周期接近的二维光栅重叠产......
随着半导体制造步入1xnm技术节点时代,调焦调平系统的测量精度达到几十纳米。在纳米尺度范围内,集成电路(IC)工艺对调焦调平测量精......
为减小圆光栅测量过程中叠栅条纹信号的细分误差,提出了一种对叠栅条纹采样信号进行参数辨识与偏差补偿的方法。该方法运用遗传算......
为了解决使用激光干涉仪测量平行平板光学元件面形时会产生干扰条纹的问题，提出了一种利用短相干光干涉测量平行平板光学元件面形的......
