套刻相关论文
用计算机研究并给出了深蚀刻二元光学元件制作误差对衍射效率影响的规律；将深刻蚀二元光学元件与一般二元光学元件制作误差规律的不......
介绍了利用激光直接光刻技术制作８相位台阶菲涅尔衍射微透镜列阵的工艺方法，并对元件的衍射效率及光刻过程中的制作误差进行了分析，透......
发展了用于实现ＩＣＦ靶面均匀照明的大口径连续型位相元件设计的新方法，并且在工艺上进行了初步试制。等厚干涉图显示达到了预期的大口径......
介绍用于 0 .35μm投影光刻机的逐场调平技术 ,讨论其检测和控制原理 ,并作精度分析 ;讨论逐场调平对套刻精度的影响 ,并建立三轴......
提出了一种制作 12 8× 12 8球冠型GaAs凹折射微透镜阵列新的方法———曲率倒易法。扫描电子显微镜(SEM )显示微透镜阵列为表面轮......
基于国际半导体技术发展路线(ITRS)的预测,如果半导体工业不断提升其产品的复杂度和密集度,那么到2022年,量测技术将面临史无前例......
提出一种利用基于数字微反射镜装置（DMD）的数字光刻系统制作掩模版的方法。通过制图软件制作出二元光栅、菲涅耳波带片等衍射光学元......
提出一种基于线性模型的光刻投影物镜偏振像差补偿方法。根据Hopkins矢量部分相干成像理论,推导了投影物镜含有偏振像差时交替型相......
针对现有微透镜加工方法难以在红外探测器衬底材料CdZnTe上实现大孔径、深浮雕微透镜制备,提出了一种利用ICP-RIE干法刻蚀结合化学......
从标量衍射理论出发，首先从理论上计算出多台阶二元光学元件发生深度误差时衍射效率的解析式；然后以4台阶和8台阶闪耀光栅为例，对二元......
根据标量衍射理论,提出了4阶二元光学元件制作误差对衍射效率影响的解析表达式,对此解析公式展开了讨论,并与计算机模拟结果进行了......
以下是美国《激光和光电子学》记者就准分子激光在半导体工业方面的应用采访麻省Leitz-Image Microsystem 公司市场和销售副总裁 ......
本文研究了将光致抗蚀剂衍射光学元件的连续沟槽蚀刻到基底层上的技术。实验分析了基底层沟槽与原版沟槽的形状和深度之间的关系。......
本文介绍了在提高砷化镓霍尔元件灵敏度、线性度及温度稳定性等方面所采取的改进措施;设计了新颖的图形,以降低元件的不等位电势及......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
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通过比较干法和浸没光刻技术在超越焦深(DOF)提高方面的一些主要特点,举例说明了采用浸没式光刻技术的许多优势.浸没式光刻技术同......
