浸没式光刻相关论文
为满足浸没式光刻照明系统对掩模面高均匀性和不同照明模式的要求,对照明系统中的照明模式变换器进行了研究。采用衍射光学元件(Dif......
传统三维光刻矢量成像模型中将投影系统物方电磁场表示为二维形式,实现方式分为两种:采用局部坐标和忽略掩模衍射频谱的轴向分量。后......
针对现有LED太阳模拟器同时解决准直性、辐照度均匀性、光谱匹配性三大技术指标的难度较高的问题, 基于光电一体化二次光学设计, ......
随着浸没式步进扫描光刻机台ASML 1900Gi的引入,国内晶圆制造将逐步进入45,32纳米时代。对45纳米及更高端的技术节点而言,浸入式光......
为了追随摩尔定律的预言,集成电路光刻成像技术特征尺寸(CD)不断减小,电路制造对光刻成像精度的要求不断提升。为了提高分辨率,采......
浸没式光刻技术是将某种液体充满投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片之间来增加系统的数值孔径,可以将193nm光刻延伸到45nm节点以......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
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在过去的几年中,ASML公司以创新的浸没式技术引领着光刻设备市场,又一次刷新了半导体制造的路线图.通过对浸没式光刻技术的再现和......
通过比较干法和浸没光刻技术在超越焦深(DOF)提高方面的一些主要特点,举例说明了采用浸没式光刻技术的许多优势.浸没式光刻技术同......

