离子渗氮是一种清洁高效的表面改性技术,能够显著提高表层硬度、改善耐磨性。常规离子渗氮处理后,渗氮层特性随离子渗氮工艺的改变......

碳化硅是第三代半导体材料，具有禁带宽度大，饱和漂移速度高，耐高压和耐高温以及抗辐射的优点，因此基于SiC的功率器件可以实现较小的导......

离子方程式是高考化学的热点，尤其是与反应物用量有关的离子反应方程式在近年来高考中出现的频率很高.这类题型因其灵活度大、综合......

考点1 过量问题的计算　　例1 298 K时，向V L真空容器内通入a mol SO2和b mol H2S。　　（1）若a＝2，则当b＝ 时，反应后容器内气体的密......

用正交实验法研究了后氧化处理温度、时间对大气等离子喷涂 (Al/Ni +Cr2 O3 )陶瓷涂层性能的影响 ,由此获得的优化工艺参数为 50 0......