论文部分内容阅读
SiC是继Si和GaAs之后发现的半导体材料,与ZnO、金刚石以及GaN同为第三代半导体材料,它弥补了Si和GaAs这些传统半导体器件不能满足现代电子技术对耐高温、高频、高压以及抗辐射要求的缺陷。SiC电子器件航天航空、化工、通信、能源和空间科学等领域的应用非常有前景,特别是在核能技术方面有着广泛的应用,是核裂变和核聚变反应堆的后备材料。本文的研究对象是高剂量中子辐照后的6H-SiC单晶,中子辐照的总剂量为2.85×10~(20) n/cm~2,对其进行室温至1700℃的等时退火处理,使中子辐照产生