DLC膜相关论文
用双离子束溅射法在50℃以下的玻璃基片上淀积了类金刚石碳(DLC)膜.研究了轰击离子能量、轰击离子束流密度及轰击源内氢/氩流量比......
采用离子束溅射与离子束辅助沉积技术在医用Ti6Al4V舍金表面制备了双层类金刚石薄膜。分别用原子力显微镜、扫描电子显微镜、Raman......
利用脉冲真空电弧离子镀技术在Ti-Ni合金上镀制类金刚石(Diamond-likecarbon,简称DLC)膜的研究在国内尚属首次,从查阅的有关的国外......
本文采用实验室自制的射频等离子体化学气相沉积(RF PECVD)设备在ITO玻璃基片上制备超薄类金刚石(DLC)膜。实验将沉积时间控制在1m......
非平衡磁控溅射(U BM S)技术近年来得到了广泛地应用。采用该技术制备的类金刚石薄膜(DLC)具有许多独特的性质。本文利用正交实验......
类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注。......
采用直流磁控溅射技术,在n-Si(100)衬底上制备了Cox C100-x(x=2.5～50,at%)颗粒膜,并对薄膜的结构、形貌、磁性能和巨磁电阻(GMR)效......
利用分子动力学模拟方法,从原子尺度上研究了类金刚石(DLC)薄膜生长过程.按照运动特点把入射原子在表面的行为分为表面冷冻、迁移......
采用磁过滤直流真空阴极弧沉积技术在单晶硅片、载玻片、不锈钢片基体上制备了类金刚石(DLC)膜.用光学显微镜、椭偏仪、Raman光谱......
利用分子动力学模拟方法研究了2—3nm厚的类金刚石(DLC)薄膜在金刚石基体(100)表面上的生长过程.分析了用来表征沉积后无定型碳膜......
在一台УВНИПА-1型双激发源等离子弧薄膜沉积装置上制取TiN-Ti-DLC、及其含有软金属Cu或PTFE覆盖膜的多层复合涂层.摩擦磨损......
采用等离子体基离子注入技术在30CrMnSi钢上制备了TiNx/DLC多层膜,通过X射线光电子谱和激光喇曼光谱测试分析了膜的结构特征,TiNx/......
