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利用硅在40%KOH水溶液中的电化学腐蚀及其在pn结处的腐蚀自停止效应,使硅片进行大面积均匀减薄,获得了厚度为3～5μm 和1μm,均匀性分别为0.3μm 和0.1μm 的SOI/SDB 材料.
采用电化学腐蚀pn结自停止法制备SiO_2上硅膜
【摘 要】
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利用硅在40%KOH水溶液中的电化学腐蚀及其在pn结处的腐蚀自停止效应,使硅片进行大面积均匀减薄,获得了厚度为3～5μm 和1μm,均匀性分别为0.3μm 和0.1μm 的SOI/SDB 材料.
【机 构】
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东南大学微电子中心南京
【出 处】
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微电子学与计算机
【发表日期】
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1990年5期
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