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针对大面阵CCD成像黑缺陷多的特点,从机理和制作工艺上进行了分析研究。结果表明,CCD成像黑缺陷主要由光刻工艺缺陷引起。光刻LOCO......
基于Lam 4420反应离子刻蚀(RIE)设备和Cl2气体开发了适用于沟槽栅IGBT的深槽等离子刻蚀工艺。通过调整HBr、O2和SF6等添加气体含量......
InAs/GaSb SLs探测器台面刻蚀常用的工艺有干法刻蚀和湿法刻蚀。研究了三种等离子刻蚀气体(Cl2基,Ar基和CH4基)对超晶格的刻蚀效果......
本文详细介绍了大型金属卷材表面改性连续卷绕镀膜生产线的工作原理、结构组成、技术特点和主要创新设计要点.分析并指出影响大卷......
离子束加工技术是目前所有特种加工方法中最精密和最微细的工艺,是当代毫微米级加工技术的基础,近几年来国外在离子刻蚀、离子注......
在MEMS设计系统中，工艺仿真是整个系统的基础，能否获得精确的器件三维模型对运动性能仿真及物理级仿真具有重要意义。然而，现有的工艺......
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技术进步给我们带来极大便利的同时,大量电子设备的使用以及空间中弥漫的各种电磁波也使得电磁辐射污染日益严重,另外在军事上,武......
利用X射线光电子谱仪 (XPS)分析和Ar+ 刻蚀相结合的方法 ,分析了Ti膜表面的化学元素及相应原子的电子结合能。分析结果表明 :Ti膜......
