半导体表面相关论文
随着人们对计算能力要求的不断提高,电子器件的尺寸越来越小,速度越来越快,逐渐发展为分子电子器件。其中,一维分子线因其独特的力......
环境和能源与人类生存发展密不可分，环境是人们生产生活的场所，人类赖以生存的基础；人类源源不断物质基础都依赖着我们生存的环境，环境......
氧气是一种绿色且廉价的氧化剂,在有机氧化反应中扮演着重要角色。利用半导体材料在太阳光驱动下活化氧气分子,可以实现从太阳能到......
用放射性同位素示踪法研究清洗剂“811”和“812”对半导体表面沾污杂质的清洗效果表明,用811、812清洗半导体表面沾污的蜡和油脂......
本文概述了使用热阴极电离规管遇到的一些问题，特别提到了钨阴极。文中叙 述了金属和半导体表面激活和中毒时的热电子发射理论。 探......
用半导体粒子作光催化剂早已有报道,但在Fujishima用半导体作光电极分解水及Bard将光电化学理论扩展到半导体微粒光催化剂的报道......
对SnO2／SnCl2半导体气敏元件的制作及其用于气相色谱检测的最佳条件、响应灵敏性、检测范围等方面予以讨论。
The preparation of ......
制作尺寸小到1微米的构件是电气、光学和机械系统朝着提高复杂性和微型化方向发展的一个关键问题。微结构工艺从半导体工业的研究......
半导体器件及集成电路的可靠性,很大程度地依赖于半导体表面的纯化技术。因此,自晶体管发明以来,在半导体器件制造领域,为达到器......
本文将介绍制备厚度可控的SOI/SDB材料的新方法,重点讨论电化学腐蚀Pn结自停止效应的机理。
This article will introduce a new ......
本论文主要研究了飞秒激光诱导半导体表面产生THz电磁波的机制，内容包括： 1.利用透射和反射光路，同一块晶体中产生和探测了THz辐射......
在现代集成电路的制造工艺中，器件的性能经常受到材料表面特性的影响，因此在器件的制作工艺中会对材料的表面进行一些处理，主要通过吸......
该文利用X射线光电子能谱(XPS)、 紫外光电子能谱(UPS)以及样品功函娄的测量较为系统地研究了碱金属对半导体表面的催化氧化、 稀......
由于在分子和生物电子技术中的重要作用,有机／无机界面正在广泛的关注并研究着。金属表面同有机分子之间的界面已经进行了很多的研......
通过对p型和n型的同一硅单晶样品分别置于大气、氧气、氮气的不同氛围中所进行的各有关表面参量的光伏测算,分析了同一样品处于不......
本文依据所掌握的物理学史料,在简要回顾固体物理和表面物理发展历史的基础上,着重叙述肖克莱对表面能级的描述、表面态的最早认识......
纳米尺度的表面化学定义为在纳米及其以下尺度研究表面与界面的结构与化学以用于精确控制材料合成与应用中发生在表面与界面的弱的......
以单个Cu原子在Si(111)-(7×7)层错半单元(F-HUC)内的随机扩散运动研究为例,演示了一种新的可以测量快速扩散运动的扫描隧道显......
离子敏感场效应晶体管(简称ISFET)是一种用于测量溶液中离子活度的新型电化学敏感器件。一般地说,它是一种栅极被固态离子选择性......
1982年扫描隧道显微镜（STM）的发明使人们第一次能够从实空间在原子尺度上来观察和研究物质世界。STM在物理和化学领域取得了巨大的成......
场效应晶体管简称FET，其主要利用场效应原理工作。场效应即改变外加垂直于半导体表面上电场的方向或大小，以控制半导体导电层（沟道）中......
砷化镓的表面钝化是一个长期未能完满解决的问题。八十年代后期出现的硫钝化技术曾带来很大的希望，但它的化学稳定性仍不够理想。通......
本文以TiO2和SnO2为大气中半导体的代表，对大气中复合半导体的光催化氧化进行初步研究。分别采用共沉淀工艺和溶胶-凝胶工艺制备了T......
<正> 用放射性同位素示踪法研究清洗剂“811”和“812”对半导体表面沾污杂质的清洗效果表明,用811、812清洗半导体表面沾污的蜡和......
报告了一种新型电子清洗工艺．该工艺采用了被命名为ＤＺ—１和ＤＺ—２的两种新型电子清洗剂分别与９５％体积的去离子水配制成清洗液，先后用超声波清洗......
采用常规和非常规方法，以均苯四甲酸、草酸等为桥配体，以甘氨酸、咪唑、水等为端配体，合成了三种配位聚合物，得到了单晶体。经X-光衍射......
本硕士论文选题于国家教育部跨世纪人才和国家自然资金(No. 69890230)资助的项目“硅基GaN的外延生长及器件应用”的一部分研究工......
